ALD装置（原子層堆積装置） 製品一覧

原子層１層枚の均一なコントロールを行い、高膜質・段差被膜性の高い成膜が可能な、研究開発用の小型原子層堆積装置です。
また、関連装置として成膜後の膜質改善用途に、アニール装置を紹介します。

  • SAL1000B

    粉体・固形粒子への全周囲成膜を可能にした卓上型ALD

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  • SAL1000G

    グローブボックス付きの卓上型ALD、粉体への成膜にも対応

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  • SAL1100

    従来モデルSAL1000Bの最大5ccの資料容量に対し「より多いペレットや粉体試料を成膜したい！」というご要望を受けて誕生。1バッチ 160ccまで成膜可能。

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  • SAL3000

    デポ方向、グローブボックス、ロードロック室の選択が可能

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  • SAL3000Plus

    拡張可能型のALD、デポ方向選択可、基板加熱MAX800℃

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  • SAN1000

    基板への高温加熱処理(アニール)や不活性ガス導入による熱処理時の圧力コントロールが可能

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  • SAN2000Plus

    MAX1000℃の温度制御やRF電源搭載が可能、拡張可能型装置に接続できる

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