原子層１層枚の均一なコントロールを行い、高膜質・段差被膜性の高い成膜が可能な、研究開発用の小型原子層堆積装置です。

Arイオンをプラズマ放電下でターゲットに衝突させ、叩き出された材料が基板に付着するスパッタリング現象を利用した成膜装置です。

SPS焼結法またはPECSとも呼ばれる高エネルギー密度加工を応用した、高性能・高品質焼結を可能とする新世代の材料合成装置です。

紫外光などの照射に対してサンプルから放出される光電子を検出することで、表面の仕事関数を可視化する顕微鏡です。

真空装置、真空設備の構成に必要な配管部品を提供しております。

熱源に設置した金属材料を蒸発させ基板へ成膜する真空蒸着装置です。

基板への高温の熱処理、ガス置換が可能です。SAN2000Plusはプラズマ処理が可能です。

石英の炉芯管内に設置したサンプルを加熱する雰囲気制御型加熱装置です。

宇宙環境の疑似再現や衛星部品の開発に使用できます。

エンジンの動力を発電機やポンプなどに伝達するクラッチ、船用向けに開発された油圧クレーン、揚網機、ウィンチ等。